真空度通常是指在一个封闭空间内的气体分子数量的稀薄程度。在科学和工业领域中，需要使用真空技术来控制和处理气体、液体和固体材料。真空度的测量单位是帕斯卡（Pa）或托（Torr）。

在实际应用中，真空度的要求取决于具体的工艺需求和材料特性。对于一些高精度的工艺，如半导体制造和光学镀膜等，需要达到非常高的真空度，以确保在处理过程中气体分子对材料的影响最小化。而在其他一些应用中，如真空包装和空调制冷等，要求的真空度则相对较低。

在0.00047 Torr左右的真空度下，气体分子的数量非常稀少，可以有效地减少气体分子对材料的影响。这种真空度通常用于半导体制造、光学镀膜和高精度的真空试验等领域。同时，这种真空度也相对容易实现，所以在实际应用中比较常见。